共用設備料金一覧
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利用料金について (H29.4.1改定)

利用料金については利用形態により料金が変わります。

利用料金=基本単価×課金係数

一例として、軽元素対応型超高分解能走査透過型電子顕微鏡を1日、技術支援(技術補助)で利用された場合は、
以下の料金となります。

30,000円/日×1日×2(技術支援の課金係数)=60,000(課金額,消費税を含みます)

上記の金額に材料費やオプション分析の金額が加算されます。

また、上記料金には消費税が含まれます。

TEM/STEM
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
環境対応型超高分解能電子顕微鏡(Cs-STEM)JEM-ARM200F Cold FE double SDD PF 1日 60,000 機器利用 60,000
技術支援 2 120,000
技術代行 5 300,000
原子分解能元素マッピング構造解析装置(Cs-STEM)JEM-ARM200F Thermal FE single SDD PF 1日 30,000 機器利用 30,000
技術支援 2 60,000
技術代行 5 150,000
軽元素対応型超高分解能走査透過型電子顕微鏡JEM-ARM200F Cold FE(Cs-STEM) PF 1日 36,000 機器利用 36,000
技術支援 2 72,000
技術代行 5 180,000
透過/走査型分析電子顕微鏡JEM-2800(TEM/STEM) PF 1日 22,000 機器利用 22,000
技術支援 2 44,000
技術代行 5 110,000
超高分解能透過型電子顕微鏡(Cs-HRTEM)JEM-ARM200F Thermal FE(日本電子) PF 1日 30,000 機器利用 30,000
技術支援 2 60,000
技術代行 5 150,000
クライオ透過型電子顕微鏡(Cryo-TEM/STEM)JEM-2100F(日本電子) PF 1日 20,000
但し
クライオ観察 +5,000
EDS/EELS +2,000
機器利用 1 基本単価×1+加算分 クライオサンプル調製費用
:1,000円/2時間/1単位

初期講習は有料(技術支援相当額を請求)
技術支援 2 基本単価×2+加算分
技術代行 5 基本単価×5+加算分
有機材料ハイコントラスト電子顕微鏡(Bio-TEM)JEM-1400(日本電子) PF 0.5日 4,000 機器利用 1 4,000 初期講習は有料(技術支援相当額を請求)
技術支援 2 8,000
技術代行 5 20,000
原子直視型超高圧電子顕微鏡JEM-ARM1250(日本電子) PF 1日 50,000 機器利用 50,000
技術支援 2 100,000
技術代行 5 250,000
高分解能透過型分析電子顕微鏡JEM-4010(日本電子) PF 1日 12,000 機器利用 12,000
技術支援 2 24,000
技術代行 5 60,000
高分解能分析電子顕微鏡JEM-2010F(日本電子) PF 1日 12,000 機器利用 12,000
技術支援 2 24,000
技術代行 5 60,000
ハイコントラスト透過型電子顕微鏡JEM-2010HC(日本電子) PF 1日 3,000 機器利用 3,000
技術支援 2 6,000
技術代行 10 30,000
高分解能トップエントリー型透過電子顕微鏡JEM-2000EX(日本電子) PF 1日 3,000 機器利用 3,000
技術支援 2 6,000
技術代行 10 30,000

SEM
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
低損傷走査型分析電子顕微鏡(SEM)JSM-7500FA(日本電子) PF 1時間 1,500 機器利用 1,500
技術支援 5 7,500
技術代行 10 15,000
高分解能走査型分析電子顕微鏡JSM-7001F(日本電子) PF 1時間 1,500 機器利用 1,500
技術支援 5 7,500
技術代行 10 15,000
高分解能走査型電子顕微鏡JSM-7000F(日本電子) PF 1時間 1,500 機器利用 1,500
技術支援 5 7,500
技術代行 10 15,000
低真空走査型分析電子顕微鏡JSM-6510LA(日本電子) PF 1時間 1,500 機器利用 1,500
技術支援 5 7,500
技術代行 10 15,000

AFM
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
走査型プローブ顕微鏡(日立ハイテク)L-traceⅡ PF 1画面 カンチレバー持ち込み:1000円、カンチレバー共用:1400円 機器利用 基本単価×1
技術支援 2 基本単価×2
技術代行 10 基本単価×10

XRD
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
超精密3次元構造解析装置(XRD)Super-Lab(リガク) PF 0.5日 12,000 機器利用 12,000
技術支援 2 24,000
技術代行 5 60,000
微小結晶構造解析装置VariMax Dual(リガク) PF 1時間 2,000 機器利用 2,000 1日最大12時間まで課金し、それ以上は課金しない。
技術支援 2 4,000
技術代行 5 10,000
有機高分子材料構造解析装置Micro7HFM-AXIS Ⅶ(リガク) 自主 1時間 2,000 機器利用 2,000 1日最大12時間まで課金し、それ以上は課金しない。
技術支援 2 4,000
技術代行 5 10,000
高輝度In-plane型X線回折装置Smart-Lab(リガク) PF 0.5日 7,200 機器利用 7,200
技術支援 2 14,400
技術代行 5 36,000
表面構造評価用多機能X線回折装置ATX-G Ultra18型(リガク) PF 0.5日 7,200 機器利用 7,200
技術支援 2 14,400
技術代行 5 36,000
粉末X線回折装置Geigerflex(リガク) 自主 0.5日 1,200 機器利用 1,200
技術支援 2 2,400
技術代行 15 18,000
粉末X線回折装置Smart-Lab(3kW)(リガク) PF 0.5日 7,200 機器利用 7,200
技術支援 2 14,400
技術代行 5 36,000
粉末X線回折装置Smart-Lab(Kα1)(リガク) PF 0.5日 7,200 機器利用 7,200
技術支援 2 14,400
技術代行 5 36,000

XPS/UPS
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)PHI 5000 VersaProbe(アルバックファイ) PF 1時間 3,000 機器利用 3,000 1日最大12時間まで課金し、それ以上は課金しない。
技術支援 2 6,000
技術代行 10 30,000
光電子分光表面電子構造測定システム(UPS)R4000 自主 1日 10,000 機器利用 10,000
技術支援 2 20,000
技術代行 不可

ESR
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
電子スピン共鳴装置(ESR)JES-FA300 PF 1日 15,000 機器利用 15,000 He使用時は1日6,000円を加算します。
技術支援 2 30,000
技術代行 10 150,000

SIMS
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
超微量元素計測システム(SIMS)NanoSIMS 50L(Cameca) PF 1日 72,000 機器利用 1 72,000 準備・調整のための測定は
1日10,000円
技術支援 2 144,000
技術代行 5 360,000

光・電気・磁気特性関連
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
CEP安定化フェムト秒再生増幅装置Legend Elite USP-HE-CEP/Evo-30(Coherent社) 自主 1日 32,000 機器利用 1 32,000 実験に必要な再生増幅器以外の全ての光学部品は基本的にユーザーがご用意ください。
技術支援 2 64,000
技術代行 不可
極限環境下電磁物性計測装置PPMS-14LHatt(日本カンタム・デザイン) PF 1日 20,000 機器利用 1 20,000 10T以上の磁場を発生する場合は課金額に20,000円(1日)を加算する。
技術支援 2 40,000
技術代行 5 100,000
環境制御マニュアルプローバステーション FCE3/1Aなど(東陽テクニカ) PF 1時間 1,500 機器利用 1 1,500 1日最大12時間まで課金し、それ以上は課金しません。
技術支援 2 3,000
技術代行 5 7,500

Ellipsometry
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
分光エリプソメータM-2000DI-T(J.A.Woollam) PF 1日 5,000 機器利用 1 5,000
技術支援 2 10,000
技術代行 10 50,000

FIB-SEM
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工設備(FIB)JIB-4600F(日本電子) PF 1時間 2,400 機器利用 1 2,400
技術支援 2 4,800
技術代行 5 12,000
CADデータ連動3次元機能融合デバイス評価用前処理システムXVision200TB(日立ハイテクノロジーズ) PF 1時間 4,000
機器利用 1 基本単価積算×1 ガス銃:基本単価に2,000円加算
SEMのみ使用:1,000円
技術支援 2 基本単価積算×2
技術代行 10 基本単価積算×10

試料作製装置
装置名称 区分 課金単位 基本単価 利用形態 課金係数 課金額 備考
クロスセクションポリッシャー(CP) PF 1件 2,000 機器利用 2,000
技術支援 2 4,000
技術代行 20 40,000
精密イオンポリッシャー(PIPS,GATAN Model-691) PF 1日 3,000 機器利用 3,000
技術支援 2 6,000
技術代行 10 30,000
精密イオンポリッシャー(PIPS,EMD-12210) PF 1日 3,000 機器利用 3,000
技術支援 2 6,000
技術代行 10 30,000
イオンスライサー(IS,EM-09100IS) PF 1日 6,000 機器利用 3,000
技術支援 2 12,000
技術代行 10 60,000
クライオイオンスライサー(Cryo-IS,IB09060CIS) PF 1日 6,000 機器利用 6,000
技術支援 2 12,000
技術代行 10 60,000
ミクロンマイスター(マルトーMC-181MY) 自主 1件 2,000 機器利用 2,000
技術支援 2 4,000
技術代行 15 30,000
低角用イオンミリング(JEOL Model1010JT) 自主 1件 2,000 機器利用 2,000
技術支援 2 4,000
技術代行 15 30,000
ウルトラミクロトーム PF 1件 50,000 機器利用 技術代行のみ。利用者が試料を包埋後、依頼
技術支援
技術代行 1 50,000
NanoMill MODEL1040(FischioneInstruments) 自主 1時間 1,500 機器利用 1,500
技術支援 2 3,000
技術代行 5 7,500