高分解能走査型電子顕微鏡

JSM-7000F 日本電子製

◯加速電圧 ~30 kV ◯像分解能 ~1.2 nm at 30 kV ◯RBEI、STEM、EBSD

各種の試料の表面形態の高分解能観察が可能です。

低損傷走査型分析電子顕微鏡

JSM-7500FA 日本電子製

◯加速電圧 0.1~30 kV ◯二次電子像分解能 ~1.0 nm (15 kV) ~1.4 nm (1 kV) ◯EDS

低加速電圧で高い分解能、電子線に敏感な試料の観察が可能です。

高分解能走査型分析電子顕微鏡

JSM-7800F Prime 日本電子製

◯加速電圧 ~30 kV ◯二次電子像分解能 ~0.7 nm (15 kV) ~3.0 nm (100 V) ◯EDS(JEOL JED-2300) ◯CL(HORIBA MP-32 S) ◯RBEI ◯STEM

分析機能付の走査型電子顕微鏡です。

低真空走査型分析電子顕微鏡

JSM-6510LA 日本電子製

◯加速電圧 ~30 kV ◯二次電子像分解能 ~3.0 nm (30 kV) ~15.0 nm (1 kV) ◯試料室内気圧 10 Pa ~270 Pa ◯EDSつき

低真空環境で観察でき、導電処理ができない試料も観察可能です。

透過型電子顕微鏡試料イオンビーム加工装置

JIB-4600F 日本電子製

◯SEM 加速電圧 0.2-30 kV ◯SEM 像分解能 1.2 n m -3.0 nm ◯FIB、Gaイオン源 ◯FIB、Gaイオン加速電圧 1-30 kV

TEM試料作製に利用する装置です。 ピンポイントでの断面試料作製、SEMによる加工部分のモニタリングが可能です。

CADデーター連動三次元機能融合 デバイス評価用前処理システム

Xvision 200TB 日立ハイテクノロジーズ製

◯ SEM 分解能 3 nm at 5 kV、 FIB 分解能 4 nm at 30 kV

配線修理、電極加工、微細加工、断面観察 CADデーターに連動した加工が実施でき、最大8インチ径ステージにより、W、C等の絶縁膜デポ、XeF有機エッチングガスが利用可能です。