クロスセクションポリシャー

SM-090010、SM-090020　日本電子製

◯加工位置確認用CCDカメラ装備 ◯イオン加速電圧 2~6 kV ◯イオンビーム径 500 μm 以上(半値幅) ◯ミリングスピード 100 μm/h (6 kV)

断面加工を行うためのアルゴンイオンミリング装置です。TEM、SEM用試料作製を主な用途としています。

イオンスライサー

IB-09060IS　日本電子製

◯イオン加速電圧 1~8 kV ◯傾斜角最大6° (0.1° 刻み) ◯試料ガス アルゴン

短冊状試料にイオン研磨処理を行いTEM用薄膜試料を作製する装置です。応力フリーなTEM薄膜試料が得られます。

クライオイオンスライサー

IB-09060CIS　日本電子製

◯液体窒素冷却 ◯最大試料サイズ 2.8 mmL×1.0 mmW×0.1 mmT ◯イオン加速電圧 1~8 kV ◯ミリングスピード 5 μm/min (8 kV,Si換算)

熱ダメージを受けやすい試料の応力フリーなTEM用断面試料作製が可能です。

ウルトラミクロトーム

EM UC7　Leica社製

◯電子顕微鏡用試料作製に利用 ◯静電気式ピックアップ法 ◯ユーセントリック実体顕微鏡

バイオ、ソフトマテリアルの透過型電子顕微鏡用試料を作製できます。

ナノミル

MODEL1040　Fischione社製

◯イオンエネルギー 50~2000 eV ◯ミリングレート 1 nm/min

FIBや、イオンミリングで作製されたTEM試料の仕上げ研磨、電子顕微鏡用試料の表面ダメージ層の除去に活用されています。