走査型電子顕微鏡 / 集束イオンビーム走査電子顕微鏡複合装置
低損傷走査型分析電子顕微鏡(JSM-7500FA)
高分解能走査型分析電子顕微鏡(JSM-7800F-PRIME)
高分解能走査型分析電子顕微鏡(JSM-IT800SHL)
![高分解能走査型分析電子顕微鏡(JSM-IT800SHL)](https://lcnet.t.u-tokyo.ac.jp/wp-content/uploads/2024/07/IT800SHL-300x225.jpg)
加速電圧:0.01~30 kV | ・加速電圧 0.5~2.9 kVは10 Vステップ |
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二次電子分解能 | ・1.0nm(加速電圧15kV, 通常) ・0.5nm(加速電圧15kV) ・0.7nm(加速電圧1kV) ・0.9nm(加速電圧500V) |
写真倍率 | ・×10 ~ 2,000,000 |
プローブ電流 | ・数pA~500nA(30kV) ・数pA~100nA(5kV) |
エネルギー分散形X線分析装置 | ・検出器:シリコンドリフト検出器 100mm2 ・エネルギー分解能:129 eV ・検出可能元素:Be ~ U |
検出器 | ・シンチレータ反射電子検出器(SBED) ・上方電子検出器(UED) ・透過電子検出器(TED) |
その他 | ・低真空対応 ・非暴露対応 |
高分解能走査型電子顕微鏡(JSM-7000F(EBSD))
低真空走査型電子顕微鏡(JSM-6510LA)
電子顕微鏡用試料作製装置FIB XVision200TB(FIB-SEM使用)
集束イオン/電子ビーム 複合ビーム加工観察装置(JIB-PS500i)
![集束イオン/電子ビーム 複合ビーム加工観察装置(JIB-PS500i)](https://lcnet.t.u-tokyo.ac.jp/wp-content/uploads/2023/02/IMG_3894-225x300.jpg)
日本電子株式会社
FIB(収束イオンビーム) | ・イオン源:Ga液体金属イオン源 ・加速電圧:0.5~30kV ・倍率:×50~×300,000 ・イオンビーム加工形状:矩形、円、多角形、ライン、スポット、ビットマップ図形 |
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SEM(電子ビーム) | ・加速電圧:0.01~30kV ・倍率:×20~×1,000,000 ・像分解能:0.7nm(加速電圧15kV)、1.0nm(加速電圧1kV) ・検出器:二次電子検出器 (SED)、上方電子検出器 (UED)、インレンズ反射電子検出器 (iBED)、リトラクタブル反射電子検出器(RBED) |
・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能
・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能
・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 500nA の大電流による安定した高速分析が可能
・ STEM観察が可能(BF,HAADF)