FACILITIES

設備案内

試料作製装置

クロスセクションポリッシャー(CP)JEOL SM-090010 090020

イオンスライサー JEOL EM-09100IS

クライオイオンスライサー(Cryo-IS) JEOL IB-09060CIS

クライオイオンスライサー(Cryo-IS) JEOL IB-09060CIS

イオン加速電圧 1~8kV
使用ガス アルゴンガス
イオンビーム幅 500um
ミリングスピード 5um/min(加速電圧:8kV/Si換算)
試料ホルダ冷却温度 -120℃
冷却保持時間 8時間
冷却到達時間 1時間
試料取り出し時間 30分

熱に弱い試料の薄膜/断面作製が可能です。

ウルトラミクロトーム(UC7型)

ウルトラミクロトーム(UC7型)

EM UC7 / ライカバイオシステムズ製

・静電気式ピックアップ法
・視認性の高LED照明システム
・ユーセントリック動作を搭載した実体顕微鏡

TEM試料調製システム ナノミル(NanoMill Model 1040)

TEM試料調製システム ナノミル(NanoMill Model 1040)

NanoMill Model 1040 / フィッショネ製

イオンエネルギー 50~2000eV
点分解能 2μm(900eV,Cu)
倍率 100~2000倍
ミリングレート 1nm/min

透過型電子顕微鏡/走査透過型電子顕微鏡用試料の作製装置です。
FIB加工やイオン研磨によって生じた試料表面のダメージ層の除去を行い試料の最終仕上げ研磨を行います。